Silicijev dioksid (SiO2 ) koji se koristi u premazima
Silika je amorfni bijeli prah, površina je nezasićena ostataka i različita stanja vezanja hidroksilne skupine, molekularno stanje trodimenzionalne strukture lanca. Općenito, interakcija između vodikovih veza agregiranih nanočestica na površini nanočestica nije snažna i može se lako odvojiti sila smicanja. Međutim, te se vodikove veze brzo oporavljaju nakon uklanjanja vanjske sile smicanja, čime se njihova struktura brzo rekombinira. Ovo se oslanja na ulogu vremena i vanjske sile kako bi se vratio izvorni odgovor slabljenja smicanja, poznat kao "tiksotropni". Tiksotropija je glavni faktor koji silicijev dioksid poboljšava performanse tradicionalnih premaza. U izgradnji unutarnjih i vanjskih premaza, dodavanjem silicijevog dioksida , može značajno poboljšati premazivanje učinka otvaranja, premaz nije hijerarhijski, s tiksotropnim, anti-bacio, izvedba građevina je dobra, posebno uvelike poboljšana otpornost na mrlje, s izvrsnim Self- svojstva čišćenja i adhezije, prijavljena je otpornost na pranje više od 10.000 puta. U prevlaku za vozila i morske podloge, dodavanje silicijevog dioksida predstavlja ključni korak u poboljšanju svojstava prevlake i protiv starenja premaza. Kada je prevlaka suha, silika može brzo formirati mrežnu strukturu koja udvostručuje njegovu otpornost na starenje, završnu obradu i čvrstoću. Ispitivanje spektrofotometra pokazalo je da silika ima vrlo jaku UV apsorpciju i infracrvenu refleksiju koja apsorbira više od 70% ultraljubičastog svjetla unutar valne duljine od 400 nm i više od 70% infracrvene svjetlosti s valnom duljinom od 400 nm. Dodavanjem silicijevog dioksida u prevlaku, prevlaka može stvarati zaštitni učinak, kako bi se postigla svrha anti-UV starenja i starenja topline, dok povećava izolaciju premaza. Eksperimenti pokazuju da silicijev dioksid slabi intenzitet UV zračenja apsorbiranim UV obradivim premazima, čime se smanjuje brzina stvrdnjavanja UV obloženih premaza, no očito može poboljšati tvrdoću i adheziju UV obloženih premaza.