Klorovodičnom kiselinom-obrađen silicij za separatore baterija

Precipitirani silicij proizvodi se zakiseljavanjem natrijeva silikata (vodeno staklo). Kada se klorovodična kiselina (HCl) koristi kao sredstvo za zakiseljavanje, dobiveni silicij obično nudi veću učinkovitost pranja, manje zaostalih metalnih nečistoća, dosljedniju površinsku kemiju i poboljšanu pH stabilnost u usporedbi s nekim drugim kiselim putevima. Slijed proizvodnje-zakiseljavanje, kontrola taloženja, filtracija i višestruka ispiranja, zatim sušenje i klasifikacija-omogućuje strogu kontrolu veličine čestica, površine i razina nečistoća.

3.1 Gradi ionsku-provodnu "autocestu": visoka poroznost i kontrolirana struktura pora

Čestice silicija tvore stabilnu 3D mikroporoznu mrežu koja povećava ukupnu poroznost i stvara međusobno povezane kanale za prijenos iona. Ova arhitektura smanjuje unutarnji otpor i poboljšava brzo-punjenje i visoko-pražnjenje.

3.2 Izvanredna močivost elektrolita i zadržavanje tekućine

Obilne –OH (silanolne) skupine na površinama silicijevog dioksida privlače polarne komponente elektrolita (EC, EMC, DEC), omogućujući brzo vlaženje, ravnomjernu distribuciju elektrolita i snažno upijanje tekućine-što je neophodno za dug životni ciklus i stabilno stvaranje SEI.

3.3 Vrhunska toplinska stabilnost: sigurnosni "vatrozid"

Anorganska priroda silicijevog dioksida i visoka toplinska otpornost djeluju kao kruti kostur preko poliolefinskih filmova, sprječavajući ozbiljno skupljanje ili taljenje tijekom toplinskih događaja i smanjujući rizik od unutarnjeg kratkog spoja i toplinskog odlaska.

3.4 Mehanička ojačanja protiv proboja i dendrita

Ravnomjerno raspršen silicij povećava otpornost na probijanje i vlačnu čvrstoću, štiteći separatore od fizičkog oštećenja tijekom namotavanja, slaganja i ciklusa.

JK SILICA specijalizirani je proizvođač funkcionalnih materijala od silicija s proizvodnim i istraživačkim kapacitetima

Ekstremna čistoća:napredno pranje i pročišćavanje, zatvorena automatizirana proizvodnja i stroga kontrola sirovina.

Serije proizvoda i prilagodba:višestruke BET razine, D50 opcije i usluge modificiranja površine kako bi odgovarale procesima premazivanja.

Tehnička podrška i kapacitet opskrbe:inženjering primjene za formulaciju gnojnice,-otklanjanje problema na licu mjesta i stabilna opskrba masovne proizvodnje.

Zatražite JK SILICA tehničke podatke i uzorke

Q:Može li silicij poboljšati brzo{0}}izvedbu punjenja?

O: Da-stvaranjem ionskih putova niske-otpornosti i poboljšanjem pristupa elektrolitu, premazi-na bazi silicijevog dioksida podržavaju poboljšano brzo-ponašanje punjenja.

 

Q: Koja su veziva kompatibilna sa silicijevim dioksidom?

O: Uobičajena veziva uključuju PVDF, PAA, CMC, SBR i hibridne sustave; odabir veziva ovisi o otapalu premaza i strategiji sušenja.

 

Q:Kako silicij poboljšava toplinsku sigurnost?

O: Keramički premaz djeluje kao kruti kostur koji smanjuje skupljanje PE/PP supstrata tijekom toplinskih događaja, smanjujući rizik od kratkog-spoja.

 

Q:Koliki je tipični D50 za separator premaza silika?

O: D50 se obično kreće od 0,5 do 2,5 μm, ovisno o dizajnu i potrebama obrade.

 

Q:Klorovodična kiselina-Prerađena u odnosu na sumpornu kiselinu-Prerađena silika

O: Iako su oba proizvoda istaloženi silicij, izbor kiseline značajno utječe na konačna svojstva:

Razine čistoće i nečistoće:HCl-put olakšava dublje pranje i učinkovitije uklanjanje ionskih ostataka, dopuštajući kontrolu Fe, Cu, Na i drugih metala na ppm ili sub-ppm razine.

Kompatibilnost premaza:HCl-izvedeni silicijev dioksid obično daje bolju stabilnost disperzije i konzistentnije silanolne površinske grupe-što je ključno za ujednačene kaše keramičkih premaza.

pH stabilnost:Uža fluktuacija pH koristi sustavima veziva kao što su PAA, CMC i PVDF.

 

Kontaktirajte JK SILICA kako biste zatražili specifikacije proizvoda, tehničke listove ili uzorke.
Naš inženjerski tim spreman je podržati vaš razvoj separatora i pomoći vam da otključate veće performanse baterije.

Kontaktirajte odmah