Poznajete li nekoliko oblikasilicijev dioksid
Kao što svi znamo, sadržaj silicija u zemljinoj kori je oko 26 posto, odmah iza kisika. Postojeći oblik elementa silicija u prirodi uglavnom je silicijev dioksid. Silicijev dioksid u zemljinoj kori uglavnom postoji u kristalima silicijevog dioksida. Iako je molekularna formula silicijevog dioksida SiO2, ne postoji niti jedna molekula silicijevog dioksida u kristalima silicijevog dioksida, već su bezbrojni atomi silicija i atomi kisika međusobno povezani vezama silicij kisik i tvore trodimenzionalnu strukturu. Kvarc, kristal, ahat i drugi poznati minerali su kristali silicija.
Budući da je kristalna struktura silicijevog dioksida stabilna, u procesu rudarenja proizvest će se velika količina kristalnog praha silicijevog dioksida. Ako ih ljudsko tijelo udahne, ti će se prahovi taložiti u plućima i ne mogu se isprazniti. S vremenom će nastati ono što obično nazivamo "silikoza" ili "silikoza". Međutim, silicij koji proizvodi naša tvrtka pripada sintetskom nano siliciju, koji nema kristalnu strukturu. Makroskopski gledano, to je agregat nano molekula silicijevog dioksida, koji je topiv u vodi te ga ljudsko tijelo može udahnuti i eliminirati krvotokom. Neće dovesti do silikoze zbog taloženja. Iako je pareni silicijev dioksid amorfni silicij, netoksičan i bezopasan, on je ipak neka vrsta praha. Ako je koncentracija u zraku previsoka, uzrokovat će i nelagodu u dišnom traktu čovjeka. Stoga je potrebno poduzeti odgovarajuće zaštitne mjere tijekom proizvodnje i rada.
Sinteza uparenog silicijevog dioksida nano veličine uglavnom se priprema kemijskom reakcijom. Trenutno postoje dvije vrste metoda taloženja i metode plinske faze. U laboratoriju postoje sol-gel metode. Ovdje se raspravlja samo o dvije metode taloženja i pripreme plinske faze. Metoda sinteze nano silicijevog dioksida metodom taloženja uglavnom je agregat silicijevog dioksida koji nastaje reakcijom otopine vodenog stakla (natrijevog silikata) sa sumpornom kiselinom i klorovodičnom kiselinom pri određenom pH. Fugirani silicijev dioksid uglavnom je amorfni nano silicijev dioksid pripremljen visokotemperaturnom hidrolizom silicijevog klorida u plamenu oksivodika. Nano silicij proizveden dvjema metodama ima vrlo očitu razliku.
Od izgleda, jer je sadržaj vode u silicijevom dioksidu puno niži nego uistaloženi silicij, fluidnost pirjanog silicija je bolja i lakše se diže prašina. Gustoća zbijanja općenito je samo 1/4 gustoće istaloženog silicijevog dioksida, a postoji i određena razlika u osjećaju između ta dva. Sa stajališta fizikalnih i kemijskih parametara, pH uparenog silicijevog dioksida je kiseo jer je hidroksilna skupina silicija na površini ionizirana u otopini, dok je istaloženi silicij općenito neutralan zbog postupka njegove pripreme i velikog broja površinskih hidroksilnih skupina ; Čistoća rasparenog silicijevog dioksida može doseći više od 99 posto, dok je čistoća istaloženog silicija općenito između 90 posto - 95 posto; Fugirani silicijev dioksid općenito je nanometarski, dok je istaloženi silicijev dioksid općenito mikronski (nanometarski).
Što se tiče cijene, metoda taloženja ima dužu povijest razvoja, zreo proces, niske troškove i visok učinak, tako da je cijena niska. Dok je silicij u plinovitoj fazi počeo kasno, s visokim zahtjevima za opremu, visokim troškovima ulaganja i niskim učinkom, cijena je viša od cijene silicijevog dioksida u plinovitoj fazi. Što se tiče područja primjene, istaloženi silicij uglavnom se koristi kao sredstvo za pojačanje i punilo gume i plastike, a naširoko se koristi u proizvodnji guma, obuće, pasti za zube, premazima i drugim područjima. Zbog svoje posebne strukture, aerosilika se uglavnom koristi kao reološki dodaci, sredstva za matiranje i sredstva protiv sedimentacije premaza i boja, kao dodaci tečenju u praškastim premazima, materijalima za ojačavanje plastike itd.
Kao novi nano materijal, upareni silicij ima neusporediva svojstva s običnim silicijevim dioksidom. Ne samo da se široko koristi u tradicionalnim poljima, već iu mnogim vrhunskim poljima i novim poljima. Fugirani silicij dat će velik doprinos industrijskom razvoju u budućnosti.
JINSHA PRECIPITATE SILICA MANUFACTURING CO.LTD.
Email.:jk@jksilica.com
Dodaj: industrijska zona Gaosha, Shaxian, Fujian, Kina
IZVOZNI URED
Soba 908, Tajvanska ulica br. 290, Xiamen, Kina
Mobitel/WhatsApp:plus 86 17850500833
Kontakt: Wendy Wu, Sally Jiang
Tel.: plus 86-592-5528715
Faks.: plus 86-592-5528716